投影屏是投影机周边设备中常使用的产品之一，投影屏是投影屏幕的简称；投影屏如果与投影机搭配得当，可以得到优质的投影效果。
投影屏一般可分为反射式、透射式两类；反射式用于正投，透射式用于背投；正投屏又分为平面屏、弧型屏；平面屏从质地上可分为玻珠屏、金属屏、压纹塑料屏、弹性屏等（压纹塑料分为白塑、灰塑、银塑等）。
硬质屏技术
硬质屏的制作主要是应用了光学漫反射和菲涅尔透镜技术等。而漫反射屏的特点是视角大、增益低、对环境光适应能力比较强，应用范围广阔。漫反射屏技术之一是直接对有机玻璃材质——亚克力表面进行处理，屏幕视角和清晰度都不理想，太阳效应也比较严重。
另一种漫反射屏技术则是利用亚克力、玻璃等透明体材料作为基底，在其表面粘贴背投软质屏幕制作而成。屏的上下左右视角都是180度，而且不会出现太阳效应，而且这种屏的尺寸一般会比较大。
菲涅尔光学透镜屏则能增加屏幕的增益，但是其垂直视角却受到了一定的限制。菲涅尔光学透镜屏根据菲涅尔透镜槽距角度的不同而不同，每款屏都具有不同的焦距，以便满足不同镜头投影机的需要。
当光打在金属表面时，二维光或是等离子体就会被激发。等离子体可以被看作是光子和电子的连接。
可以建立一个混合原则，由光转变成的等离子体在金属表面传播时（该等离子体的波长比原始光波的波长小的多）；等离子体能被二维光学仪器（镜子、波导、透镜等）处理，等离子体能再次转变成光或者电信号。
等离子体传感器和癌症仪：NaomiHalas描述了等离子体怎样激发小金属层表面的，米粒形状的粒子能量很大，做光谱学试验的光是微分子数量级。在米粒状粒子弯曲顶端处等离子体电场比用来激发等离子体的电场强很多，并且它在很大程度上改进了光谱的速率和性。换一种说法，纳米数量级的等离子体不仅可以用来鉴定，还可以用来杀死癌细胞。
等离子体主要用于以下3方面。
①等离子体冶炼：用于冶炼用普通方法难于冶炼的材料，例如高熔点的锆(Zr)、钛(Ti)、钽(Ta)、铌(Nb)、钒(V)、钨(W)等金属；还用于简化工艺过程，例如直接从ZrCl、MoS、TaO和TiCl中分别获得Zr、Mo、Ta和Ti；用等离子体熔化快速固化法可开发硬的高熔点粉末，如碳化钨-钴、Mo-Co、Mo-Ti-Zr-C等粉末等离子体冶炼的优点是产品成分及微结构的一致性好，可免除容器材料的污染。
②等离子体喷涂：许多设备的部件应能耐磨耐腐蚀、抗高温，为此需要在其表面喷涂一层具有特殊性能的材料。用等离子体沉积快速固化法可将特种材料粉末喷入热等离子体中熔化，并喷涂到基体（部件）上，使之迅速冷却、固化，形成接近网状结构的表层，这可大大提高喷涂质量。
③等离子体焊接：可用以焊接钢、合金钢；铝、铜、钛等及其合金。特点是焊缝平整，可以再加工没有氧化物杂质,焊接速度快。用于切割钢、铝及其合金，切割厚度大。