使用方法：

1） 先将水磨石地面沙粒，灰尘，蜡质及其他涂层清除干净，水磨石地面需翻新到2000＃以上，然后冲洗地面，吸干或刮干水分，并充分干燥地面。

2） 再将晶面剂按每平方8-15克的用量喷洒于地面，每次处理面积以1-2平方米为佳，配合专业翻新晶面机及合适的重压，采用钢丝垫、红垫或纳米垫将之均匀涂开，打磨至通透晶亮效果。

3） 日常保养，建议用PH值在5-7范围的中性清洁剂清洗，或使用清水清洗。

抛光液的主要产品可以按主要成分的不同分为以下几大类：金刚石抛光液（多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液）、氧化硅抛光液（即CMP抛光液）、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类。

多晶金刚石抛光液

多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分，配合高分散性配方，可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。主要应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。

氧化铈抛光液

氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液，该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。

适用于高精密光学仪器，光学镜头，微晶玻璃基板，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。